中國西藏網微博
中國西藏網微信新華社東京6月15日電（記者錢錚）日本物質材料研究機構14日發布新聞公報說，該機構研究團隊研發出一種可反復黏合和剝離的黏合劑，用完之后還能將基材和黏合劑還原到原始狀態后分別回收。這種可再生黏合劑可望廣泛應用于電子設備、醫療儀器等的生產和修理。
公報說，研究人員注意到咖啡酸在波長不同的紫外線照射下能發生可逆的交聯反應和脫交聯反應，利用這一特點，他們研發出一種含咖啡酸的高分子材料。將這種材料涂布到基板上后，用波長365納米的紫外線照射，材料就會發生交聯反應，生成不溶于溶劑的預涂黏合層。
這種預涂黏合層在常溫下沒有黏性，可以在陰暗的室溫環境下保存兩年而性能不會下降。使用時只要令其接近熱源，就能反復黏合和剝離。實驗顯示，黏合和剝離反復30次以上后，材料黏合強度仍與初次使用時一樣。使用完畢后，用波長254納米的紫外線照射，材料就會發生脫交聯反應，恢復到和涂布前相同的狀態，黏合劑和基板能分別回收再利用。
本項研究成果已發表于新一期美國《先進功能材料》雜志上。
（責編： 王東）
版權聲明：凡注明“來源：中國西藏網”或“中國西藏網文”的所有作品，版權歸高原（北京）文化傳播有限公司。任何媒體轉載、摘編、引用，須注明來源中國西藏網和署著作者名，否則將追究相關法律責任。
